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        晶瑞新材料有限公司

        主營:氧化鋁拋光粉,三氧化二鋁拋光粉,氧化鋯拋光粉,氧化鈰拋光粉,二氧化硅拋光粉等
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        [供應]拋光粉的種類及拋光效果分析
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        • 產品產地:安徽宣城
        • 產品品牌:晶和
        • 包裝規格:
        • 產品數量:0
        • 計量單位:
        • 產品單價:0
        • 更新日期:2014-04-28 14:19:11
        • 有效期至:2015-04-28
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        拋光粉的種類及拋光效果分析 詳細信息

        拋光粉的種類及拋光效果分析

                                                                                                                          晶瑞

        一.拋光粉的總類:

        拋光粉通常由氧化鋁、氧化硅、氧化鋯、氧化鈰等組份組成,不同的材料的硬度不同,在水中的化學性質也不同,因此使用場合各不相同。氧化鋁和氧化鋯的莫氏硬度為9,氧化鈰和氧化硅為7,氧化鐵更低。氧化鈰與硅酸鹽玻璃的化學活性較高,硬度也相當,因此廣泛用于玻璃的拋光。

         

        二.對拋光粉的基本要求:

        (1)微粉粒度均勻一致,在允許的范圍之內;

        (2)有較高的純度,不含機械雜質;

        (3)有良好的分散性,以保證加工過程的均勻和高效,可適量添加分散劑提高懸浮率;

        (4)粉末顆粒有一定的晶格形態,破碎時形成銳利的棱角,以提高拋光效率;

        (5)有合適的硬度和密度,和水有很好的浸潤性和懸浮性,因為拋光粉需要與水混合

         

        粒度越大的拋光粉,磨削力越大,越適合于較硬的材料,要注意的是,所

        有的拋光粉的顆粒度都有一個分布問題,平均粒徑或中位徑D50的大小只決定了拋光速度的快慢,而最大粒徑Dmax決定了拋光精度的高低。因此,要得到高精度要求,必須控制拋光粉的最大顆粒。普通拋光粉之所以存在劃傷,就是有大顆粒的原因。所以一般選擇粒徑分布范圍窄的納米拋光粉(VK-L30F)。顆粒越細的拋光粉,所拋材料的亮度越高。

         

            拋光過程中漿料的濃度決定了拋光速度,濃度越大拋光速度越高。使用小顆粒拋光粉時,漿料濃度因適當調低以得到合適的流動性,一般建議在7-10%

         

        三.拋光模的選擇

        拋光模應該用軟一點的。應該指出的是,很多聚氨酯拋光片中添加了氧化鈰拋光粉。這些拋光粉的最大顆粒度同樣決定了最終的拋光精度。一般最好使用不加拋光粉的拋光模,種類有海綿輪,羊毛輪等。

         

        四.影響拋光粉性能的指標

        1、粉體的粒度大小:顆粒的大小及均勻度決定了拋光速度和精度,過篩的篩網目數能掌握粉體相對的粒度的值,平均粒度決定了拋光粉顆粒大小的整體水平。

        2、粉體莫氏硬度:硬度相對大的粉體具有較快的切削效果,同時添加一些助磨劑等等也同樣能提高切削效果;不同的應用領域會有很大出入,包括自身加工工藝。

        3、粉體懸浮性:好的拋光粉要有較好的懸浮性,粉體的形狀和粒度大小對懸浮性能具有一定的影響,納米粒徑的拋光粉的懸浮性相對的要好一些,所以精拋一般選擇納米拋光粉。

         

        4、粉體的晶型:粉體的晶型是團聚在一起的單晶顆粒,決定了粉體的切削性、耐磨性及流動性。粉體團聚在一起的單晶顆粒在拋光過程中分離,使其切削性、耐磨性逐漸下降,顆粒為球型的拋光粉具有良好的切削性、耐磨性和流動性。

         

        五.拋光范圍細分:

        作為精細拋光材料,目前市場上用量最大的幾類拋光粉主要是氧化鋁拋光粉,氧化鈰拋光粉,氧化硅拋光粉等。

         

        1.  氧化鋁拋光粉:

        氧化鋁拋光粉(VK-L30F)一般用于石材拋光,鋁材鏡面拋光,不銹鋼鏡面拋光,鑄鐵拋光,鈦合金拋光,金相分析,汽車油漆鏡面拋光,樹脂拋光,寶石拋光,球型顆粒,粒徑0.3um。

         

              2.  二氧化硅拋光粉:

        一般用于人工晶體,寶石拋光,或者金屬制品精拋后修復其少量的瑕疵。其粒徑一般50nm

         

              3.  氧化鈰拋光粉或者拋光液(VK-Ce01W):

        用于鏡頭、電視顯像管、眼鏡片、晶圓,光學元件、光纖、藝術玻璃、電子玻璃、平板玻璃等的拋光。一次粒徑一般要求在20-30nm,二次粒徑一般要求0.2um。

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