江蘇前錦爐業設備有限責任公司

氧化鋁燒結窯爐、高溫液化氣窯爐廠家

低氫技術、氣氛控制技術
傳統的還原設備采用高氫鉬絲爐，以氨分解氣作為工藝氣體，鉬絲作為加熱元件，窯爐氣氛氫含量達75%，有關大學及研究單位在實驗室做出的蘭綠粉優良的性能結果，在企業投產時，性能相差較大。高氫窯爐成為影響蘭綠粉，特別是蘭粉性能的主要原因。
將氫含量降低至5—10%是高性能蘭綠粉的合理工藝條件，經實驗，采用鉬絲作為加熱元件，壽命短，不具有工業價值.。通過對窯爐熱工的優化設計和結構的開發，成功的采用硅鉬棒加熱，達到了工業化使用目的。硅鉬棒的表面負荷控制為5w/cm2以下，高溫區平均壽命達到5.5月，低溫區平均壽命達到10個月。
在低氫爐的開發過程中，成功地采用了熱電技術、高溫抗氫耐火材料技術、氣密硅鉬棒塞磚結構、雙門氮氣置換室、氣液轉換動力技術、PLC控制技術、氣氛控制技術等。
5—10%的工藝氫采用氫氣源和氮氣源混配而成，由于氫含量低，混配氫的壓力應高于氮氣壓力的20—60%，通過在線式氫氣分析儀在線分析混合氣的氫含量，經控制裝置調節氫氣的流量，達到控制、穩定氫氣含量的目的。穩定的氫量工藝參數對蘭綠粉的產品質量有著重要的影響，在氣源壓力、爐內工況變化時，氣氛控制裝置可以實現5%的氣氛穩定度。
采用氣氛控制技術，將氫氣含量控制在50%左右，用于開發中氫綠粉鉬絲還原推板窯，將可以有效提高綠粉的產品質量，降低投資成本。

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