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        深圳一通檢測(cè)技術(shù)有限公司

        主營(yíng):包裝檢測(cè),紙品,紙箱,膠帶,包裝件測(cè)試
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        [供應(yīng)]SGS檢測(cè)告訴你表面異物分析是什么意思
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        • 產(chǎn)品產(chǎn)地:廣東
        • 產(chǎn)品品牌:SGS檢測(cè)
        • 包裝規(guī)格:ZTT
        • 產(chǎn)品數(shù)量:10000
        • 計(jì)量單位:樣
        • 產(chǎn)品單價(jià):500
        • 更新日期:2015-09-18 15:44:38
        • 有效期至:2016-09-17
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        SGS檢測(cè)告訴你表面異物分析是什么意思 詳細(xì)信息

         

         

        表面異物分析是什么意思    具體的解答如下

         

         

        不只是權(quán)威,更有專業(yè)的服務(wù)!

        當(dāng)天做完測(cè)試,當(dāng)天出報(bào)告,沒(méi)有第二家檢測(cè)公司可以做到這樣的效率。

        13年年底檢測(cè)公司也做大促拉。所有測(cè)試項(xiàng)目全部八折優(yōu)惠。

        沒(méi)有做不到,只有想不到!沒(méi)有想不到,只要你敢想!

        中天檢測(cè)誠(chéng)邀您的加盟!

         

        爸爸去哪兒?爸爸在找最權(quán)威的檢測(cè)機(jī)構(gòu)!

         

        當(dāng)材料及零部件表面出現(xiàn)未知物質(zhì),不能確定其成分及來(lái)源時(shí),可以通過(guò)對(duì)異物進(jìn)行微觀形貌觀察和成分分析進(jìn)行判斷。

        分析方法:

        根據(jù)樣品實(shí)際情況,以下分析方法可供選用。

        儀器名稱

        信號(hào)檢測(cè)

        元素測(cè)定

        檢測(cè)限

        深度分辨率

        適用范圍

        掃描電子顯微鏡(SEM)

        二次及背向散射電子&X射線

        B-U  (EDS  mode)

        0.1  -  1  at%

        0.5  -  3  μm  (EDS)

        高辨析率成像

        元素微觀分析及顆粒特征化描述

        X射線能譜儀(EDS)

        二次背向散射電子&X射線

        B-U

        0.1  –  1  at%

        0.5  –  3  μm

        小面積上的成像與元素組成;缺陷處元素的識(shí)別/繪圖;顆粒分析(> 300nm)

        顯微紅外顯微鏡(FTIR)

        紅外線吸收

        分子群

        0.1  -  1  wt%

        0.1  -  2.5  μm

        污染物分析中識(shí)別有機(jī)化合物的分子結(jié)構(gòu)

        識(shí)別有機(jī)顆粒、粉末、薄膜及液體(材料識(shí)別)

        量化硅中氧和氫以及氮化硅晶圓中的氫  (Si-H  vs.  N-H)

        污染物分析(析取、除過(guò)氣的產(chǎn)品,殘余物)

        拉曼光譜(Raman)

        拉曼散射

        化學(xué)及分子鍵聯(lián)資料

        > =1  wt%

        共焦模式
        1到5  μm

        為污染物分析、材料分類以及張力力測(cè)量而識(shí)別有機(jī)和無(wú)機(jī)化合物的分子結(jié)構(gòu)

        拉曼,碳層特征  (石墨、金剛石  )

        非共價(jià)鍵聯(lián)壓焊(復(fù)合體、金屬鍵聯(lián))

        定位(隨機(jī)v.  有組織的結(jié)構(gòu))

        俄歇電子能譜儀(AES)

        來(lái)自表面附近的Auger電子

        Li-U

        0.1-1%亞單層

        20  –  200  ?側(cè)面分布模式

        缺陷分析;顆粒分析;表面分析;小面積深度剖面;薄膜成分分析

        X射線光電子能譜儀(XPS)

        來(lái)自表面原子附近的光電子

        Li-U化學(xué)鍵聯(lián)信息

        0.01  -  1  at%  sub-monolayer

        20  -  200  ?(剖析模式)
        10  -  100  ?  (表面分析)

        有機(jī)材料、無(wú)機(jī)材料、污點(diǎn)、殘留物的表面分析

        測(cè)量表面成分及化學(xué)狀態(tài)信息

        薄膜成份的深度剖面

        硅  氧氮化物厚度和測(cè)量劑量

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