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[供應]供應VKL-2/3/5/10系列真空等離子清洗機系統
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- 更新日期：2023-11-15 11:53:35
- 有效期至：2024-11-14
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供應VKL-2/3/5/10系列真空等離子清洗機系統
詳細信息
VKL-2/3/5/10系列真空等離子清洗機系統
關鍵詞：等離子，13.56MHZ，真空清洗機，2L
產品介紹：
VKL-2/3/5/10系列真空等離子清洗機系統是國內目前應用廣泛的真空等離清洗機，性能優越，可以同時處理物理和化學等材料清洗材料。兩檔操作模式，兩路氣壓操作系統，全觸摸屏操作，處理參數任意設定，是目前高校先進材料清洗的首選設備。
產品應用領域：
1、光學器件、電子元件、半導體元件、激光器件、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗。清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質，去除金屬材料表面的氧化物。
2、清洗半導體元件、印刷線路板、ATR元件、人工晶體、天然晶體和寶石。
清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。
3、高分子材料表面的修飾。封裝領域中的清洗和改性，增強其粘附性，適用于直接封裝及粘和。改善粘接光學元件、光纖、生物醫學材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
4、涂覆鍍膜領域中對玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性，使其活化，增強表面粘附性、浸潤性、相容性，顯著提高涂覆鍍膜質量。
5、牙科領域中對鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預處理，增強其浸潤性和相容性。
6、醫用領域中修復學上移植物和生物材料表面的預處理，增強其浸潤性、粘附性和相容性。對醫療器械的消毒和殺菌
主要技術參數：
型號
VKL-2
VKL-3
VKL-5
VKL-10
腔體材料
石英玻璃
腔體容量
2L
3L
5L
10L
內腔尺寸
100×200Lmm
150×200Lmm
150×270Lmm
220×280Lmm
射頻電源功率
0-300W可調
射頻功率
13.56MHZ
RF放射
無
頻率偏移量
小于0.2KHZ
等離子體轟擊方式
從四周往中間
腔體內溫度
≦30°C/ ≦65°C
清洗時間
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